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次世代接着材料研究会PartⅥ 第3回例会

テーマ「高分子表面改質とプロセスシミュレーション技術」
 高分子材料の反応挙動や加工プロセス挙動を評価解析するために、また、高機能性接着材料の
効率的な開発を進める為にもシミュレーション技術の活用が求められています。
また、接着材料を開発する上で重要な因子である「表面」を創製・改質する新規な技術が求めら
れています。
本例会では、評価・シミュレーション技術と、表面改質技術について講演を頂き、新たな材料
開発や加工プロセス技術開発に結びつけられればとの思いから企画しました。
多数の参加をお待ちしております。

プログラム
13:25~13:30 委員長挨拶              積水化学工業㈱ 沼田 憲男氏
13:30~14:30(1時間)
1.「リモートプラズマ型室温原子層堆積の基礎と応用」
                         山形大学大学院 廣瀬 文彦氏
 山形大学では、完全リモートプラズマ励起源を用いた室温原子層堆積法を開発している。
この方法では、SiO2、Al2O3、TiO2、HfO2、ZrO2など多種の金属酸化膜の室温堆積が
可能である。また本方法では、ガスの回り込みがよく、複雑形状の部品でも均一に、同時
多数処理が可能である。本講演では、当該技術の開発に関わる基礎研究成果とその応用例
について紹介する。

14:30~15:30 (1時間)
2.「高分子材料の溶融混練におけるシミュレーション技術と混練性能評価」
                          九州大学大学院 梶原 稔尚氏
  高分子ブレンド,コンポジットなどの高分子材料の製造に混練は不可欠なものであるが,
混練機内の材料挙動は,流路形状,相構造変化,それに伴う材料物性変化など極めて予測
が困難な系である。混練機内の材料挙動の解明や混練装置の性能評価,装置のスケール
アップなどに対して,計算機シミュレーションを利用する取り組みが長年続いている。
本講演では,現象解明や混練性能予測をどのように行うべきか,また現状はどのレベル
にあるか,研究事例を交えて解説する。

15:45~16:45 (1時間)
3.「多官能分子の重合反応における重合度分布の理論解析」
                         東京大学 物性研究所 中尾 俊夫氏
  所望の重合度分布をもつ高分子材料の設計、あるいは実験値からの重合度分布推定に、
理論解析が有用である。従来は単純な反応系に限られていたが、数式処理の発達により
扱える領域が拡大、実用性が大きく改善された。本日はその例として、「縮合反応に
於いて反応が隣接する官能基の影響を受ける系、TEOSなど分子内環化反応を含む系、
コンフィギュレーション分布も扱える計算とSECデータ解析への応用、前駆体の調整
とその架橋反応」について紹介する。                      

【申込方法】
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まだ、研究会にご登録されていない方は、「PARTⅥ前期 開催のご案内 次世代の高性能・高機能性接着」
http://www.adhesion.or.jp/seminar/seminar_detail/7/5/20/
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【年会費】
 法人会員           年額 60,000円(消費税込)(優待券使用の場合は半額)
 法人非会員          年額 100,000円(消費税込)
 個人正会員 企業       年額 30,000円(消費税込)
 個人正会員 大学・公共機関  年額 10,000円(消費税込)
 個人非会員          年額 50,000円(消費税込)
 とし、原則として一括払いとする。
  なお、法人会員(特別・維持・賛助)からの本会「催し物特別優待券」を使用してのお申込の場合は、
  1社(1事業所)1枚につき半額とさせて頂きますので申込書に添付の上お申込下さい。
  また、個人正会員(企業)としてお申込の場合は「催し物特別優待券」の使用は出来ません。

詳しくは事務局までお問い合せ下さい。
事務局:info-hnb@adhesion.or.jp
 

日 時 2016年11月18日(金)13:25~16:45
会 場 ゲートシティ大崎 ゲートシティホール ルームB 
〒141-0032 東京都品川区大崎1-11-1 ウエストタワーB1
TEL 03-5496-5311 http://www.gatecity.jp/access/

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