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次世代接着材料研究会PartⅥ 第6回例会

テーマ「UV硬化システムのユニークなアプローチ」

 UV硬化技術は、半導体レジスト分野および表示材のコーティング分野で大きな役割を果たしています。
接着剤分野においても光接合材や後剥離材として多くの研究開発が進んでいます。
 今回は、この分野におけるパラダイムシフトにつながるようなユニークなアプローチを提案されている
先生方に講演していただく機会を設けることができました。貴重な機会ですので、多数の参加をお待ちし
ております。

下記「セミナーお申し込みフォームはこちら」から、9月4日(月)までにご登録下さいますようお願い
申し上げます。

プログラム
13:00~13:05 委員長挨拶                          積水化学工業㈱ 沼田 憲男氏

13:05~13:55(50分)
1.「新規な光塩基発生剤の開発とUV硬化への利用」            東京理科大学 有光 晃二氏
   塩基触媒反応を利用したUV硬化材料の研究開発は、ラジカルUV硬化やカチオンUV硬化系に
  比べて著しく遅れている。これは光塩基発生剤の塩基発生効率が低く、感光材料としての感度が
  著しく低くなることが原因である。筆者らは高効率で有機強塩基を発生する新規な光塩基発生剤
  を開発することに成功した。これらの光塩基発生剤の特性とUV硬化材料への応用について述べる。

13:55~14:45 (50分)
2.「複合照射システムによるUV硬化反応の高効率化への取り組み」  ヘレウス㈱ 足利 一男氏
   UV照射の直前にIRを照射し、UV硬化材料の分子運動を活性化させた状態でUV照射を行う
  プロセスについて紹介する。異なる波長領域の光を用いてUV照射プロセスを組み立てること
  により、UV硬化反応の初期過程における重合開始活性種生成効率が著しく増加することを実
  験事例とともに紹介する。

15:00~15:50 (50分)
3.「NIR(近赤外光)に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」      
                               サンアプロ㈱ 白石 篤志氏
   フォトポリマーに用いられる光源の波長は、これまで主に紫外線領域が用いられてきた。
  近年フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴い、要求される波長は、例えば半導体用
  リソグラフィーにおいては紫外光から極端紫外光領域へ、コーティングや印刷用途において
  は紫外光から可視光領域へと多様化してきている。我々は、さらに長い近赤外光領域(NIR)
  に着目した。
  今回、このNIR(近赤外光)に感光する開始剤とフォトポリマーへの応用について紹介する。


15:50~16:40 (50分)
4.「UVを利用した機能性マイクロカプセルの創製」              神戸大学 北山 雄己哉氏
    コア部に種々の物質を封入したカプセル粒子は、塗料、自己修復剤およびドラッグデリバ
  リーシステムなどへの応用が期待できる機能性微粒子として広く用いられている。我々は、
  側鎖に光架橋性官能基を有する真球状高分子微粒子に対して、UV照射を行うことでシェル部
  選択的な架橋形成が生じることを見出し、コア部未架橋ポリマーの除去によって架橋中空粒子
  を得る新しい中空粒子創製法を開発した。
    本講演では、本創製法の詳細に加え、内部への薬剤封入によるカプセル粒子化や、刺激応答
  性高分子を用いることによる機能性カプセル粒子の創製について紹介する。


日 時 2017年9月11日(月)13:00~16:45
会 場 フォーラムミカサエコ 8F ホール 
〒101-0047 東京都千代田区内神田1-18-12 内神田東誠ビル8F
TEL 03-3291-1395 http://fm-tohnet.com/access

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